高精度双顺序注射进样系统
双顺序注射进样设计,样品、载流、还原剂平稳推进,实现高精度在线反应。
采用微升级取样精度和补偿技术,重复性优于0.05%。
高稳定性和准确性
具备漂移软校准功能、QCP质控功能,支持多标曲自动检测,提高测汞稳定性。
双注射系统去除还原剂气泡设计,减少气泡影响。
电子流量气路控制,提高氩气流量准确度和稳定性。
采用ARM + FPGA主控架构,核心部件独立MCU 控制,四核心协同运作。
高自动真智能简化您的工作
仪器自动配置标准曲线,高浓度样品自动稀释。
元素灯自动激发,智能识别,双道启辉。
专用夜间模式,支持仪器运行结束后休眠,以及定时自动唤醒并执行预热功能。
炉丝电流监测,自动判断炉丝工作状态。
可选双偏心自校正无极调节机构元素灯架,适配不同偏心量的各种元素灯。
超大容量溢流自动监测废液桶,软件智能提醒。
软件界面自定义具备强大功能
软件实现全面自定义,功能窗口自由停靠。检测全流程界面监控,支持多道信号谱图实时显示。QCP质控功能,检测过程软校准,提高质控质量。提供向导式操作、审计追踪、用户权限管理、实时监控、自定义报告、样品信息自由复制粘贴与导入功能。
可升级模块
具备形态分析扩展功能。预留元素形态分析串口,可升级为形态分析仪,测量As、Hg、Se等元素的各种价态。
可选配160位或212位自动进样器,实现全自动分析。